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| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN202022973U | 可调式制程腔体结构 | 2011.11.02 | 一种可调式制程腔体结构包括：一主制程腔体，具有一内侧表面；一固定装置，设置于主制程腔体的内部，以架设 |
| 2 | CN202007269U | 镀膜窗 | 2011.10.12 | 本实用新型是关于一种镀膜窗包括：一框架，具有一上边框、一下边框、一右边框、及一左边框；二遮板，包含有 |
| 3 | TWM408786 | 可调式制程腔体结构 | 2011.08.01 | |
| 4 | 镀膜窗 | 2011.08.01 | ||
| 5 | 可调式制程腔体结构 | 2011.08.01 | ||
| 6 | TWM408478 | 镀膜窗 | 2011.08.01 | |
| 7 | CN201785481U | 柱状电极 | 2011.04.06 | 一种柱状电极，包括：中空外壳体；中空内壳体，配置于中空外壳体内，中空内壳体与中空外壳体之间形成一冷却 |
| 8 | CN201737999U | 柱状电极靶材装置 | 2011.02.09 | 本实用新型是有关于一种柱状电极靶材装置，其包括：中空柱状电极壳体，具有一内腔体；靶材，围绕中空柱状电 |
| 9 | TWM390320 | 柱状电极靶材装置 | 2010.10.11 | |
| 10 | TWM388513 | 柱状电极 | 2010.09.11 | |
| 11 | CN201530861U | 溅镀机构以及包含其的溅镀装置 | 2010.07.21 | 一种溅镀机构以及包含有此溅镀机构的溅镀装置，溅镀机构包括：多数个电极靶材单元，配置于同一平面，每一电 |
| 12 | CN201442988U | 等离子体辅助化学气相沉积装置 | 2010.04.28 | 一种等离子体辅助化学气相沉积装置，包括：反应腔、承载板、电极、多个电极支撑件、进气装置、以及排气装置 |
| 13 | TWM365932 | 电浆辅助化学气相沉积设备 | 2009.10.01 | 本创作系有关于一种电浆辅助化学气相沉积设备，包括：载入单元、输出单元、至少一反应单元、以及传输单元。 |
| 14 | CN201294215Y | 一种偏压式等离子源以及包含其的等离子处理机构 | 2009.08.19 | 本实用新型公开了一种偏压式等离子源以及包含其的等离子处理机构，其有关一种偏压式等离子源，其包括：一电 |
| 15 | CN201285757Y | 整合式等离子体处理机构 | 2009.08.05 | 本实用新型一种整合式等离子体处理机构，其包括：一反应腔、一载盘、以及至少一等离子体源。其中，反应腔包 |
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